Heater 控温系统

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Heater控温系统

Heater控温系统为薄膜沉积、刻蚀等半导体制造设备提供高精准温控解决方案,支持标准成套方案与工况定制温控程序。同一控制器硬件平台可根据用户需求配置多种软件方案,适配多样化工艺环境与应用场景。

Heater 控温系统产品图

高精准温控

为薄膜沉积、刻蚀等半导体制造设备提供高精准温控解决方案,支持标准成套方案与工况定制温控程序

灵活软件配置

同一控制器硬件平台可根据用户需求配置多种软件方案,适配多样化工艺环境与应用场景

丰富通讯接口

配备RS-485、RS-232、USB、DeviceNet、Profibus及以太网等接口,支持Modbus、SCPI、EtherCAT等标准通讯协议及其他自定协议

多级控温方案

采用多级控温方案,在保证控温高精度的同时,实现快速升温和运行稳定

温控曲线

Heater 控温系统温控曲线图

控温范围

刻蚀设备

20-110℃

精度 ±1℃

CVD设备

200-1000℃

精度 ±2℃

PVD设备

400-1000℃

精度 ±2℃